计量术语
1.基本指标标注

表1 UL-200气浮位移台
备注:
l 检测标准参考GB/T 17421.2 2016,IS0230-2 2014和ASME B5.54。
l 线性指标采用雷尼绍XL80或RLE20配合光学条镜测试;角度摆动指标采用光学自准直仪测试。
l 指标测试位置在距离溜板中心高度25mm处。
l 测试环境温度控制在±0.1℃/24小时。
2.位移台指标释义

图1 运动平台指标示意图
绝对定位精度(Absolute accuracy)通常也称为Position accuracy,描述运动平台实际到达的目标位置与期望位置之间的最大偏差,数学表达为max(∣实际位置−目标位置∣)。绝对定位精度受编码器、激光尺等反馈机构,滚珠丝杠、直线电机、触动器等驱动机构以及轴承安装方式等影响。

图2 运动平台绝对定位精度示意
其中,余弦误差、测量点的阿贝误差、丝杆导程误差以及热膨胀效应等在轴运动方向产生单调递增的线性误差(linear error * travel),通过对各位置偏差进行最小二乘等拟合可以得到斜率,因此,轴上精度(On-axis accuracy)定义为在运动控制器中对绝对定位精度进行线性误差补偿之后的定位精度,如图3所示。

图3 定位精度与重复定位精度
在相同条件下,运动平台多次重复运行至同一个期望位置时的控制能力,数学表达:重复定位精度=max(实际位置波动范围)。单向重复精度是测量从单个方向多次接近期望位置的最大离散程度,忽略了平台内的间隙和滞后等因素影响。双向重复定位精度则是测量从正反两个方向多次接近期望位置的最大离散程度。单位通常为微米(μm)。

图4 定位精度与重复定位精度
依据IS0230-2 2014标准,在进行重复定位精度测试时,循环次数需大于5次。如图5所示,运动平台的行程为490mm,根据应用设置步长为10mm,正、反向循环5次,结果为102nm(PtP)。

图5 490mm行程位移台双向重复定位精度测试结果
分辨率,通常指运动平台编码器的反馈分辨率,可以是AB相数字脉冲、模拟量信号等,是控制系统能够稳定命令、识别并检测到的最小运动指令。最小位移增量指运动平台能够连续稳定运行的最小位移量,通常用激光尺或干涉仪测量。单位:通常为微米(μm)。如图6所示,光栅尺的分辨率为1μm,控制器无法识别sub-resolution即小于分辨率的位移量。

图6 490mm行程位移台双向重复定位精度测试结果
分辨率可以理解为控制系统与编码器形成的半闭环系统的输出能力,而最小位移增量则是控制系统、编码器及执行机构组成的全闭环系统的输出能力。由于机械系统受摩擦、负载、振动及外力等因素影响,执行机构无法始终如一的使最小位移增量等于分辨率,所以分辨率小于最小位移增量。

图7 490mm行程位移台双向重复定位精度测试结果
评估规则: 3 x Standard Deviation ( Measured step length ) < Commanded step Size。 由经验知位移台无法稳定执行小于两倍分辨率的位移量。

图8 直线平台6个几何误差示意
运动平台在沿运动方向(X轴)运动时,其运动轨迹相对于理想轴线在水平面上(Y轴方向)的偏离程度。
运动平台在沿运动方向(X轴)运动时,其运动轨迹相对于理想轴线在竖直面上(Z轴方向)的偏离程度。
运动平台在沿运动方向(X轴)运动时,Point of interest(目标测量点)绕水平面横轴(Y轴)的旋转角度。
运动平台在沿运动方向(X轴)运动时,Point of interest(目标测量点)绕水垂直轴(Z轴)的旋转角度。
运动平台在沿运动方向(X轴)运动时,Point of interest(目标测量点)绕运动轴(X轴)的旋转角度。
表2 Point of interest(目标点)误差影响
偏差 | 偏置 | 误差影响 | |
Roll (θx) | X | 无 | 无 |
Y | Z | 平面度(Flatness) | |
Z | Y | 直线度(Straightness) | |
Pitch (θy) | X | Z | 平面度(Flatness) |
Y | 无 | 无 | |
Z | X | 定位精度(Accuracy) | |
Yaw (θz) | X | Y | 直线度(Straightness) |
Y | X | 定位精度(Accuracy) | |
Z | 无 | 无 | |
如图9所示,目标测量点及平台参数如下:
距离台面高度为Height=100mm,
最大pitch值Max.pitch = 100urad,
非线性pitch偏差Non-linear pitch = 20μrad,
pitch的重复性Repeatability of pitch = 5μrad,受pitch影响的指标计算如下:
Abs.accuracy = Height x Max.pitch = 0.1m x 100urad = 10μm
On_axis accuracy = Height x Non-linear pitch = 0.1m x 20urad = 2μm
Repeatability = Height x Repeatability of pitch = 0.1m x 5urad = 0.5μm

图9 Pitch偏差对平台性能指标的影响示意

图10 XY轴堆叠及负载偏置示意
运动平台在到达目标位置后,保持位置稳定的能力,不会因为外部干扰或自身因素而产生明显的位移或振动。
如图10,评估XY堆叠平台在零位时重心偏置(x_m,y_m,z_m)后负载作用点Load_m的在位稳定性。按应用需求,采用分辨率为1nm的激光尺,以1kHz的采样频率,采集Load_m在60s内的在位稳定性,PtP值分别为40nm和32nm。

图11 在位稳定性测试结果
运动平台上电后在静止或运动过程中,位置指令值与编码器反馈值之间的差值,即位置跟随误差=位置指令值-编码器反馈值,在位稳定性描述的就是平台运动到目标位置后跟随误差的波动。
位置跟随误差是伺服算法计算和其他参数定义的核心,伺服控制器的主要任务是确保运动平台的实际轨迹在时间上尽可能接近指令轨迹。图12为运动平台在以10mm/s的速度运行至匀速段的位置跟随误差,约±300nm,采样频率为1kHz。

图12 在位稳定性测试结果
运动平台在指定速度及采样频率下保持稳定的能力。
速度稳定的平台,在一定负载变化或者外部干扰的情况下,仍能维持其速度在一定范围内波动,不会出现大幅度的变化。该指标受机械结构(机械精度、刚性、阻尼等)、驱动系统、控制系统(控制算法、参数整定等)、负载变化(质量、惯性、偏心等)、外部干扰(外部的振动、冲击、电磁干扰等)影响。
按应用需求,采用分辨率为1nm的激光尺,以1kHz的采样频率,采集Load_m在10mm/s匀速段运行时的速度稳定性,VelocityError = max(偏差/速度设置值)。

图13 速度稳定性测试结果
在测量过程中,因轴的角度偏摆与阿贝偏置的联合作用,造成被测点的空间坐标值(即测量值)与实际值之间产生的线性轴误差。特别是当被测点距离运动轴相对较远即阿贝臂h较大时,会对Point of interest(目标测量点)的空间位置精度造成重大影响。阿贝误差属于单向递增的线性误差,在运动控制器中可以对其进行标定和补偿。
如图14所示,δx = sin θ * h;小角度: sin θ ≈ θ。δx (µm) ≈ θ (µrad) * h (m)。

图14 阿贝误差计算示意
由测量轴与运动轴之间的不平行所产生,在线性运动平台中,余弦误差是由反馈系统(光栅尺)与运动轴之间受加工、制造及装配工艺的限制而产生的不平行所导致。该误差在任何直驱平台中均存在,且是测量轴与运动轴之间夹角的函数。现实中,很难做到测量轴与运动轴之间的绝对平行,因此余弦误差永远存在。

图15 余弦误差示意
机械系统中,由于零件之间比如滚珠丝杆与滚珠之间的配合存在间隙,导致在改变运动方向时,输出与输入之间出现延迟或空行程的现象,迟滞是指机械部件的顺应性,而间隙代表机械传动系的“发挥”或松动。如图1所示。回程间隙是相对可重复且可通过控制器补偿的。


图17 迟滞Hysteresis测试

图18 回转几何误差示意
回转运动平台在旋转过程中,其轴心线相对于基准轴线(通常是轴的中心线)的最大偏离距离,由图19所示自准直仪和反射镜共同测试。

图19 Eccentricity及Wobble的测试平台
如图18所示,摆动(Wobble)是旋转轴相对于理想轴的倾斜,通常由轴承自身及安装异常引起,表现为工作台顶部的循环倾斜,并可能产生阿贝误差。由图19所示自准直仪和反射镜共同测试,报告如图20所示。

图20 Wobble测试报告
回转运动平台在旋转过程中,其端面相对于理想平面在轴向的偏离程度。
回转运动平台实际到达的目标角度与期望旋转角度之间的最大偏差,如图21所示,采用自准直仪搭配多棱镜测试,或采用雷尼绍XR20测试。

图21 角度定位误差平台
作用载荷(Applied loads)
如图18所示,当载荷被作用在旋转平台或主轴上且有偏置时,由于结构或轴承的有限顺应性,会发生偏转。挠度的大小取决于所施加的载荷、偏心距及安装表面的结构刚度。

其中,
:偏心负载
:中心承载能力
:负载偏心距
:结构参数,轴中心距工作台面的距离
:挠度
:弯矩 
:角刚度。